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堅(jiān)膜烘箱，氮?dú)鈭?jiān)膜烘箱在芯片工藝中的用途
來(lái)源: | 作者:雋思半導(dǎo)體設(shè)備部 | 發(fā)布時(shí)間: 2023-09-14 | 458 次瀏覽 | 分享到:
堅(jiān)膜烘箱的作用是在一定的溫度下,對(duì)顯影后的襯底進(jìn)行烘焙。這將使光刻膠的表面在表面張力的作用下而圓滑化,并使光刻膠層中的缺陷因光刻膠表面的圓滑化而減少,并可借此修正光刻膠圖形的邊緣輪廓。

堅(jiān)膜烘箱，氮?dú)鈭?jiān)膜烘箱的用途

       堅(jiān)膜烘箱的作用是在一定的溫度下,對(duì)顯影后的襯底進(jìn)行烘焙。 其的主要作用是除去光刻膠中剩余的溶劑,增強(qiáng)光刻膠對(duì)硅片表面的附著力,同時(shí)提高光刻膠在刻蝕和離子注人過(guò)程中的抗蝕性和保護(hù)能力。這將使光刻膠的表面在表面張力的作用下而圓滑化,并使光刻膠層中的缺陷因光刻膠表面的圓滑化而減少,并可借此修正光刻膠圖形的邊緣輪廓。

堅(jiān)膜烘箱，氮?dú)鈭?jiān)膜烘箱技術(shù)性能：

       通過(guò)堅(jiān)膜,光刻膠的附著力會(huì)得到提高,這是由于除掉了光刻膠中的溶劑,同時(shí)也是熱融效應(yīng)作用的結(jié)果,因?yàn)闊崛谛?yīng)可以使光刻膠與硅片之間的接觸面積達(dá)到最大。較高的堅(jiān)膜溫度可使堅(jiān)膜后光刻膠中的溶劑含量更少,但增加了去膠時(shí)的困難。     

溫度范圍：RT～250℃；
均勻度：±2%℃;    

溫度波動(dòng)度：±0.5℃（空載）        
溫控精度：±0.1℃;   

潔凈度：Class100; 

計(jì)時(shí)范圍：99H99M；   

氣體氛圍：N2；

內(nèi)部尺寸（mm）：

450×450×450

500×500×550

600×700×800（可定制）