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工信部官宣！我國(guó)正式突破7nm光刻技術(shù)
來(lái)源: | 作者:上海雋思半導(dǎo)體設(shè)備部 | 發(fā)布時(shí)間: 2024-09-20 | 487 次瀏覽 | 分享到:

      近日，  工業(yè)和信息化部正式發(fā)布了《首臺(tái)(套)重大技術(shù)裝備推廣應(yīng)用指導(dǎo)目錄(2024年版)》（以下簡(jiǎn)稱《指導(dǎo)目錄》），這一舉措旨在推動(dòng)我國(guó)重大技術(shù)裝備的創(chuàng)新發(fā)展和推廣應(yīng)用，同時(shí)加強(qiáng)產(chǎn)業(yè)、財(cái)政、金融、科技等國(guó)家支持政策的協(xié)同效應(yīng)。

值得注意的是，《指導(dǎo)目錄》中提到的氟化氬光刻機(jī)，代表了當(dāng)前全球半導(dǎo)體制造領(lǐng)域的尖端技術(shù)。光刻機(jī)被譽(yù)為"芯片之母"，是集成電路制造中最為關(guān)鍵的設(shè)備之一。能夠生產(chǎn)出如此高精度的光刻機(jī)，意味著我國(guó)在半導(dǎo)體制造裝備領(lǐng)域已經(jīng)取得了重大突破，為未來(lái)實(shí)現(xiàn)高端芯片的自主可控奠定了堅(jiān)實(shí)基礎(chǔ)。

這一目錄的發(fā)布，不僅僅是一份簡(jiǎn)單的技術(shù)指標(biāo)清單，更體現(xiàn)了我國(guó)在高端制造業(yè)領(lǐng)域的戰(zhàn)略布局。通過(guò)鼓勵(lì)和支持首臺(tái)(套)重大技術(shù)裝備的研發(fā)和應(yīng)用，我國(guó)旨在加速關(guān)鍵核心技術(shù)的突破，推動(dòng)產(chǎn)業(yè)鏈向高端化、智能化方向發(fā)展，最終實(shí)現(xiàn)制造強(qiáng)國(guó)的宏偉目標(biāo)。