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態(tài)


個產(chǎn)品,

對待每一

做到極致認(rèn)真

每一個零件
細(xì)

每一組數(shù)據(jù)

  • 智能型HMDS真空系統(tǒng)(JS-HMDS90-AI)
  • 潔凈烘箱,百級無塵烘箱
  • 氮?dú)夂嫦洌艹涞嫦?/div>
  • LCP熱處理烘箱,LCP纖維氮?dú)夂嫦?/div>
  • 熱風(fēng)循環(huán)真空烘箱,高溫?zé)犸L(fēng)真空烤箱
  • HMDS預(yù)處理系統(tǒng)(JS-HMDS90 )
  • 智能型無塵無氧烘箱(PI烤箱)
  • 真空無氧固化爐,高溫?zé)o氧烘箱
  • 精密烤膠臺,高精度烘膠機(jī)
  • 超低溫試驗箱,零下-120度高低溫箱
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小型蒸發(fā)鍍膜儀
    發(fā)布時間: 2022-04-12 10:18    

小型蒸發(fā)鍍膜儀用途

   用于真空蒸發(fā)鍍光學(xué)薄膜、有機(jī)物薄膜和金屬薄膜、在襯底上沉積各單層金屬 膜,主要用于蒸鍍電極及有機(jī)半導(dǎo)體材料的物理化學(xué)性能研究實驗研究 。特別適合于高科技企業(yè)、科研單位和高校用于膜層研究和膜系開發(fā)。


小型蒸發(fā)鍍膜儀主要技術(shù)參數(shù)                                                          

真空腔室尺寸:Φ300*H400mm,預(yù)留膜厚儀接口304不銹鋼材料,圓柱式,門上配有觀察窗;  

真空系統(tǒng) 分子泵 +直聯(lián)旋片泵+高真閥門; “一低一高”數(shù)顯復(fù)合真空計;

極限真空 真空極限優(yōu)于 5×10-5Pa ;

溫度范圍 RT-600/1600℃,可調(diào)可控;

基片臺尺寸最大可鍍基片尺寸/面積:Φ100mm 范圍內(nèi)可裝卡各種規(guī)格配 套相應(yīng)樣品架可固定各類不銹鋼掩膜板。

基片臺旋轉(zhuǎn):0-20 轉(zhuǎn)/分鐘,可調(diào)可控;

蒸發(fā)源及電源水冷蒸發(fā)電極金屬蒸發(fā)電源;

控制方式PLC+觸摸屏,自動控制;

報警及保護(hù)對泵、電極等缺水、過流過壓、斷路等異常情況進(jìn)行報警并執(zhí)行相應(yīng)保護(hù)措施;完善的邏輯程序互鎖保護(hù)系統(tǒng);

設(shè)備配電 AC220V/50HZ ,功率:3.5KW;

設(shè)備尺寸×寬×高:500*360*420mm;