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對(duì)

態(tài)

,


個(gè)產(chǎn)品,

對(duì)待每一

做到極致認(rèn)真

每一個(gè)零件
細(xì)

每一組數(shù)據(jù)

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智能型HMDS烘箱,全自動(dòng)HMDS預(yù)處理系統(tǒng)
    發(fā)布時(shí)間: 2022-04-09 15:01    

智能型HMDS烘箱,全自動(dòng)HMDS預(yù)處理系統(tǒng)的重要性:
  光刻涂膠工藝中絕大多數(shù)光刻膠是疏水的,而硅片表面的羥基和殘留的水分子是親水的,這造成光刻膠和硅片的黏合性較差,尤其是正膠,顯影時(shí)顯影液會(huì)侵入光刻膠和硅片的連接處,容易造成漂條、浮膠等,導(dǎo)致光刻圖形轉(zhuǎn)移的失敗,同時(shí)濕法腐蝕容易發(fā)生側(cè)向腐蝕。在半導(dǎo)體生產(chǎn)工藝中,光刻是集成電路圖形轉(zhuǎn)移重要的一個(gè)工藝環(huán)節(jié),涂膠質(zhì)量直接影響到光刻的質(zhì)量,涂膠工藝也顯得尤為重要。增黏劑HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善這種狀況。將HMDS涂到硅片表面后,經(jīng)烘箱加溫可反應(yīng)生成以硅氧烷為主體的化合物。它成功地將硅片表面由親水變?yōu)槭杷?,其疏水基可很好地與光刻膠結(jié)合,起著偶聯(lián)劑的作用。

智能型HMDS烘箱,全自動(dòng)HMDS預(yù)處理系統(tǒng)主要技術(shù)性能:

電源電壓:AC 220V±10%/50Hz±2%

輸入功率:2500W

控溫范圍:RT+10℃-250℃

溫度分辨率:0.1℃

溫度波動(dòng)度:±0.5℃

達(dá)到真空度:133Pa(1torr)

工作室尺寸(mm):450*450*450、350*350*350(可自定義)

智能型HMDS烘箱,全自動(dòng)HMDS預(yù)處理系統(tǒng)的優(yōu)越性:

預(yù)處理性能更好,更加均勻;效率高,一次可以處理多達(dá)4盒的晶片;更加節(jié)省藥液;低液報(bào)警、防藥液泄漏等具有很強(qiáng)的安全保護(hù)功能;,有可自動(dòng)吸取添加HMDS功能,智能型的程式設(shè)定,一鍵完成作業(yè)。