就
是
對(duì)
待
工
作
的
態(tài)
度
,
個(gè)產(chǎn)品,
做到極致認(rèn)真
每一組數(shù)據(jù)
新 聞 動(dòng) 態(tài)
NEWS
氮?dú)夂嫦湓贗C封裝工藝中的用途
隨著集成電路封裝對(duì)可靠性要求越來越高,裝片后烘烤對(duì)于產(chǎn)品可靠性的影響日益凸顯。烘烤過程中由于裝片膠烘烤產(chǎn)生的可揮發(fā)物污染及框架、芯片表面鋁層氧化異常,往往會(huì)帶來后續(xù)封裝過程中的朔封體分層、焊接可靠性不良等可靠性異常,是封裝過程中對(duì)封裝可靠性影響最大的工序之一。
封裝過程中,裝片后的烘烤主要目的,是裝片膠在高溫條件下完全反應(yīng),使芯片與框架基島之間達(dá)到需要的芯片剪切力。烘箱為一個(gè)密閉箱體,不工作狀態(tài)下為室溫;在放入產(chǎn)品后,烘箱會(huì)在一定時(shí)間內(nèi)升溫至固化溫度,并保持要求的時(shí)間后降溫;降溫至一定溫度后,取出產(chǎn)品,固化完成。
在這個(gè)烘烤過程中,一定要注意兩個(gè)因素:
(1)氮?dú)夂嫦涿芊庑粤己?以確保固化溫度的穩(wěn)定性及可控性;
(2)在烘烤過程中充入氮?dú)猓档秃婵究臻g中的氧氣含量,防止氧化。
氮?dú)夂嫦湓贗C封裝工藝中使用的方法:
后蓋烘烤:使用潔凈烤箱(百級(jí)潔凈烘箱),需要控制烘烤的溫度和時(shí)間,溫度可達(dá)120~200度,時(shí)間需要1小時(shí)左右。
后烘烤:要控制好烘烤的溫度,一般80度左右,一定不能過高,還要控制烘烤的時(shí)間,一般60分鐘左右。
無塵等級(jí):Class 100;
溫度范圍: RT+60~ +500℃;
溫度均勻度:±2%℃;
溫度波動(dòng)度:±1℃(空載)
溫控精度:±0.1℃;
工作尺寸:350*350*350,450*450*450*,800*700*600(任意尺寸定制)
電源:380v , 50Hz
潔凈度:HEPA過濾器與前出風(fēng)型水平層流循環(huán)方式實(shí)現(xiàn)并保證箱內(nèi)的溫度分布的均勻性與100級(jí)潔凈度。
潔凈烘箱,百級(jí)潔凈烤箱用于半導(dǎo)體制造中硅片、砷化鎵、鈮酸鋰、玻璃等材料涂膠前的預(yù)處理烘烤、涂膠后堅(jiān)膜烘烤和顯影后的高溫烘烤,IC封裝;也適用于電子液晶顯示、LCD、CMOS、IS、醫(yī)藥、實(shí)驗(yàn)室等生產(chǎn)及科研部門;也可用于非揮發(fā)性及非易燃易爆物品的干燥、熱處理、老化等其他高溫試驗(yàn)。