中文国产日韩欧美二视频_色欲综合久久躁天天躁_日本bbw50熟高潮_国产在线精品99一区不卡_AV天堂精品一区二区三区

 

就

是

對(duì)

待

工

作

的

態(tài)

度

，


個(gè)產(chǎn)品，

對(duì)待每一

做到極致認(rèn)真

每一個(gè)零件
細(xì)
致

每一組數(shù)據(jù)

  • 智能型HMDS真空系統(tǒng)（JS-HMDS90-AI）
  • 潔凈烘箱，百級(jí)無(wú)塵烘箱
  • 氮?dú)夂嫦?，精密充氮烘?/div>
  • LCP熱處理烘箱，LCP纖維氮?dú)夂嫦?/div>
  • 熱風(fēng)循環(huán)真空烘箱，高溫?zé)犸L(fēng)真空烤箱
  • HMDS預(yù)處理系統(tǒng)(JS-HMDS90 )
  • 智能型無(wú)塵無(wú)氧烘箱（PI烤箱）
  • 真空無(wú)氧固化爐，高溫?zé)o氧烘箱
  • 精密烤膠臺(tái)，高精度烘膠機(jī)
  • 超低溫試驗(yàn)箱，零下-120度高低溫箱
最新消息
熱搜：HMDS烘箱 無(wú)塵烤箱 無(wú)氧烤箱

新  聞  動(dòng)  態(tài)

 NEWS

HMDS預(yù)處理烘箱必要性和優(yōu)越性
來(lái)源:上海雋思實(shí)驗(yàn)儀器有限公司 | 作者:pro00ad5e | 發(fā)布時(shí)間: 2011-05-09 | 2979 次瀏覽 | 分享到:
HMDS預(yù)處理烘箱的必要性：
   在半導(dǎo)體生產(chǎn)工藝中，光刻是集成電路圖形轉(zhuǎn)移重要的一個(gè)工藝環(huán)節(jié)，涂膠質(zhì)量直接影響到光刻的質(zhì)量，涂膠工藝也顯得尤為重要。光刻涂膠工藝中絕大多數(shù)光刻膠是疏水的，而硅片表面的羥基和殘留的水分子是親水的，這造成光刻膠和硅片的黏合性較差，尤其是正膠，顯影時(shí)顯影液會(huì)侵入光刻膠和硅片的連接處，容易造成漂條、浮膠等，導(dǎo)致光刻圖形轉(zhuǎn)移的失敗，同時(shí)濕法腐蝕容易發(fā)生側(cè)向腐蝕。增黏劑HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善這種狀況。將HMDS涂到硅片表面后，經(jīng)烘箱加溫可反應(yīng)生成以硅氧烷為主體的化合物。它成功地將硅片表面由親水變?yōu)槭杷?，其疏水基可很好地與光刻膠結(jié)合，起著偶聯(lián)劑的作用。
 
HMDS預(yù)處理烘箱構(gòu)成及控制方式：設(shè)備主要由腔體，電氣控制箱以及真空泵組成。采用可編程控制器、操作界面為5.7” E-view觸摸屏加外部常用按鈕控制。
 
HMDS預(yù)處理烘箱的優(yōu)越性
HMDS預(yù)處理系統(tǒng)的優(yōu)點(diǎn)在于：
（1）預(yù)處理性能更好，由于是在經(jīng)過(guò)數(shù)次的氮?dú)庵脫Q再進(jìn)行的HMDS處理，所以不會(huì)有塵埃的干擾，再者，由于該系統(tǒng)是將"去水烘烤"和HMDS處理放在同一道工藝，同一個(gè)容器中進(jìn)行，晶片在容器里先經(jīng)過(guò)100℃-200℃的去水烘烤，再接著進(jìn)行HMDS處理，不需要從容器里傳出，而接觸到大氣，晶片吸收水分子的機(jī)會(huì)大大降低，所以有著更好的處理效果。
（2）處理更加均勻。由于它是以蒸汽的形式涂布到晶片表面上，所以有液態(tài)涂布不可比擬更好的均勻性。
（3）效率高。液態(tài)涂布是單片操作，而本系統(tǒng)一次可以處理多達(dá)多盒的晶片。
（4）更加節(jié)省藥液。實(shí)踐證明，用液態(tài)HMDS涂布單片所用的藥液比用本系統(tǒng)處理多盒晶片所用藥液還多。
（5）更加環(huán)保和安全，HMDS是有毒化學(xué)藥品，人吸入后會(huì)出現(xiàn)反胃、嘔吐、腹痛、刺激胸部、呼吸道等，由于整個(gè)過(guò)程是在密閉的環(huán)境下完成的，所以不會(huì)有人接觸到藥液及其蒸汽，也就更加安全，它的尾氣是直接由機(jī)械泵抽到尾氣處理機(jī)，所以也不會(huì)對(duì)環(huán)境造成污染。設(shè)備具有自動(dòng)檢測(cè)HMDS藥夜泄漏報(bào)警功能。