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噴墨打印鈣鈦礦發(fā)光二極管
來源:中科院長春光機所Light學(xué)術(shù)出版中心旗下學(xué)術(shù)傳播與服務(wù)平臺 | 作者:雋思半導(dǎo)體設(shè)備部 | 發(fā)布時間: 2021-05-28 | 2917 次瀏覽 | 分享到:

     近期，《發(fā)光學(xué)報》2021年第5期文章“基于LiF修飾層的噴墨打印鈣鈦礦發(fā)光二極管”被選為當期封面文章。《發(fā)光學(xué)報》執(zhí)行主編郝振東研究員特別邀請該篇文章的通訊作者李福山教授，對其進行封面故事專訪。


李福山教授圍繞封面文章中噴墨打印鈣鈦礦發(fā)光二極管（二極管無塵烘箱）方面的意義進行了深入解答，展望了噴墨打印鈣鈦礦發(fā)光二極管的未來前景，分享了其研究團隊近期其他相關(guān)工作和重要成果。本期，讓我們一起走進李福山教授研究團隊，了解封面文章背后的故事。

李福山（通訊作者）：噴墨打印技術(shù)是近幾年快速發(fā)展的技術(shù)之一，該技術(shù)與傳統(tǒng)實驗上使用的旋涂、刮涂相比材料利用率更高、更加適合大面積的產(chǎn)品制備；同時這種技術(shù)使溶液法制備高精度圖形化產(chǎn)品成為可能。目前這方面已經(jīng)有較多的研究，顯示出較好的應(yīng)用前景。


另外值得注意的是，經(jīng)過近年來的研究，鈣鈦礦發(fā)光器件（PeLEDs）的外量子效率（EQE）已超過20%，有望作為新一代的發(fā)光光源應(yīng)用于照明和顯示領(lǐng)域。然而，目前發(fā)光器件仍然局限于旋涂工藝，發(fā)光區(qū)域約為幾平方毫米。小發(fā)射面積明顯限制了它們的實用化進程，特別是阻礙了它們在顯示和固態(tài)照明中的應(yīng)用。


為此，我們在前期噴墨打印量子點LED（LED芯片HMDS涂膠機）工作基礎(chǔ)上，結(jié)合噴印鈣鈦礦薄膜生長調(diào)控和發(fā)光器件結(jié)構(gòu)設(shè)計，希望為噴墨打印鈣鈦礦發(fā)光器件的研究提供方向和突破。


目前，我們在《發(fā)光學(xué)報》發(fā)表的文章提出采用LiF界面修飾層實現(xiàn)打印鈣鈦礦薄膜均勻性和器件電荷輸運雙重調(diào)控，獲得了像素化均勻發(fā)射的PeLED；我們也在期刊Organic Electronics上發(fā)表了當前最高外量子效率（EQE）的打印鈣鈦礦發(fā)光器件（8.25l m/W, EQE 3.03%, 10 992 cd/m2，Organic Electronics, 2021, 93: 106168.），揭示了鈣鈦礦量子點在噴印過程中的堆垛成膜機制。相信這些工作會對相關(guān)研究起到啟示性作用。




論文信息

鄭春波，鄭鑫，馮晨，倪梓全，鞠松蔓，李福山*，基于LiF修飾層的噴墨打印鈣鈦礦發(fā)光二極管[J]. 發(fā)光學(xué)報, 2021, 42(5):565-574. DOI：10.37188/CJL.20210058


論文網(wǎng)址

http://cjl.lightpublishing.cn/thesisDetails#10.37188/CJL.20210058